KLA iNano 納米壓痕儀：iNano為壓痕、硬度、劃痕測(cè)試和多元化納米級(jí)測(cè)試等納米級(jí)力學(xué)測(cè)試設(shè)計(jì)。iNano能夠測(cè)試包括軟質(zhì)高聚物到硬質(zhì)涂層和薄膜等在內(nèi)的各種材料。

F50薄膜厚度測(cè)量?jī)x：依靠F50的光譜測(cè)量系統(tǒng)，可以簡(jiǎn)單且快速地獲得直徑450毫米的樣品薄膜的厚度分布圖。采用r-θ極坐標(biāo)移動(dòng)平臺(tái)，可以快速的定位所需測(cè)試的點(diǎn)并測(cè)試厚度，測(cè)試非?？焖?，大約每秒能測(cè)試兩點(diǎn)。

電阻率測(cè)量?jī)x是KLA薄膜電阻和導(dǎo)電率測(cè)繪系統(tǒng)。從半導(dǎo)體制造到實(shí)現(xiàn)可穿戴技術(shù)所需的柔性電子產(chǎn)品，薄膜電阻監(jiān)控對(duì)于任何使用導(dǎo)電薄膜的行業(yè)都比較重要。

薄膜厚度測(cè)量?jī)x薄膜特性：厚度、反射率、透射率、光學(xué)常數(shù)、均勻性、刻蝕量等；薄膜種類：透明及半透明薄膜，常見如氧化物、聚合物甚至空氣。

微米級(jí)橫向定位精度自動(dòng)化薄膜厚度測(cè)繪系統(tǒng)集成了先進(jìn)的光學(xué)、電子和機(jī)械模塊，可兼用于對(duì)無(wú)圖形和圖形薄膜（例如微圖形表面、粗糙表面）進(jìn)行精確測(cè)量 ）。

精簡(jiǎn)薄膜厚度測(cè)量特性分析系統(tǒng)：FR-ES 機(jī)型設(shè)計(jì)在以較小的占地面積提供涂層表征性能。它廣泛應(yīng)用于各種不同的測(cè)量應(yīng)用：薄膜厚度、折射率、顏色、透射率、反射率等等。