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更新時間：2024-11-15
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GA-5000nao型 氨逃逸一體化在線監測系統
產品概述：
GA-5000nao氨逃逸一體化在線監測系統（NH3、NO、O2）基于可調諧半導體激光吸收光譜（TDLAS）和紫外差分吸收光譜（DOAS）技術原理。系統包括預處理、氣體分析模塊和數據處理與顯示三大部分。被測氣體經過高溫采樣探頭除塵、伴熱管高溫傳輸、進入高溫氣體分析模塊（TDLAS+DOAS技術）分析測量。有效的解決了銨鹽低溫結晶堵塞流路，冷凝水析出溶解NH3導致的測量精度偏低，原位式系統高粉塵衰減光路導致無法測量等技術難題。
GA-5000nao型 氨逃逸一體化在線監測系統
技術規格：
測量技術：可調諧半導體激光吸收光譜（TDLAS）技術
紫外差分吸收光譜 （DOAS）技術+氧化鋯
量程范圍：
Nh3：0～10～1000ppm
No：0～50～5000ppm
O2：0～25%
線性誤差：≤±1%F.S.
重復性：≤1%
零點漂移：≤±1%F.S./半年
量程漂移：≤±1%F.S./半年
響應時間：＜90s（T90）
模擬量輸出：5路4-20mA輸出
模擬量輸入：3路4-20mA輸入
數字通訊：RS485/RS232/GPRS
檢測下限：0.1ppm（10m光程）
吹掃氣源：（0.4～0.8）MPa氮氣、凈化儀表空氣
產品特點：
“單線光譜”吸收技術避免背景氣體干擾、檢測下限低、量程漂移小
220℃以上伴熱避免銨鹽結晶及水份吸收
結構緊湊、便于安裝，自動化程度高、維護量小
多參數集成于同一系統，同時測量成本低
產品應用：
適用于包括燃煤發電廠、鋁廠、鋼鐵廠、冶煉廠、玻璃廠、垃圾發電站、水泥廠、化工廠等SCR或SNCR脫硝裝置的氨氣逃逸排放監測和過程控制
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